关于此次投资对公司业务的延伸方面,思泰克表示,“公司作为专注于机器视觉检测设备的企业,核心产品主要用于各类PCB的SMT生产线中的品质检测环节与半导体后道封装中的制程环节,而光刻胶作为半导体和PCB制造的核心材料,其性能直接影响后续公司检测设备的应用效果和客户产品的最终良率。”

4月底,思泰克发布2024年业绩报告,数据显示,公司全年实现营业总收入3.49亿元,同比下降5.21%;归母净利润7731.21万元,同比减少22.21%。可见,公司业绩并不理想,2025年一季度业绩有所改善,实现主营收入7723.57万元,同比增长22.51%;归母净利润1833.47万元,同比增长25.98%。

正如思泰克在《公告》中提到的,“近年来,全球半导体市场规模持续扩大,对高端光刻胶的需求不断增加。目前,国外企业占据半导体光刻胶主要市场份额。随着国内半导体行业的快速发展,国内高端光刻胶的研发及生产日益加速,市场前景良好。”未来,光刻胶也许是思泰克进行业务拓展的核心方向之一。

华睿芯材这家公司来头不小,实力不容小觑。该公司全称是华睿芯材(无锡)科技有限公司,成立于2021年2月,由北京华睿新能动力科技与清华大学(清华控股华控技术转移公司)及教授团队共同出资设立。华睿芯材专注于半导体光刻胶及其配套化学品的研发与产业化,定位为解决光刻胶领域“卡脖子”难题,满足国家半导体产业战略需求。

2025年华睿芯材与清华大学集成电路学院合作在SPIE年会上发布新型锆基光刻胶技术,实现硅刻蚀选择比超28倍(远超传统光刻胶的5-6倍),显著简化了半导体工艺流程。目前公司处于中试及产业化运营阶段,已建成光刻胶研发测试平台,配备专业检测设备,并积累系列核心知识产权。

华睿芯材的产品布局包括纳米金属氧化物光刻胶,包括EUV(极紫外)、DUV(深紫外)、电子束光刻胶及高速3D打印光刻胶。其拳头产品基于锆基光刻胶技术,具备高刻蚀抗性和高温稳定性,可替代传统有机材料,适用于半导体深度刻蚀场景。其中,高端电子束光刻胶已在国内光电芯片龙头企业完成流片验证,技术指标达国际水平。行业地位上,公司是国内少数全面掌握光刻胶核心材料、配方与应用技术的企业,技术转化能力突出。

但从公司目前的业绩表现来看,思泰克在《公告中》表示,华睿芯材目前处于中试及产业化运营阶段,尚未实现销售收入,2022-2024年,华睿芯材分别亏损147.96万元、215.36万元、347.89万元。

光刻胶是半导体制造、显示面板和印刷电路板(PCB)等电子信息产业中的核心材料,被誉为“半导体的液体黄金”。其核心功能是通过光化学反应,将掩模版上的微米/纳米级电路图形精确转移到硅片、玻璃基板等加工基材表面,从而形成电子器件的精细结构。

按照曝光波长,光刻胶可分为EUV(13.5nm)光刻胶,用于7nm以下先进制程,技术壁垒最高;ArF(193nm)/KrF(248nm)光刻胶,覆盖90nm-7nm主流制程;g/i线(436nm/365nm)光刻胶,用于成熟制程及PCB领域。

在EUV光刻胶领域,需要匹配极紫外光源,开发难度大,全球仅日企(JSR、东京应化等)掌握量产技术,市占率超90%。国产光刻胶在缺陷控制(线宽均匀性±1.5nm)、原材料纯度(99.9997%)等环节仍有巨大差距。

因此,虽然全球光刻胶市场2024年约有超过180亿元的市场规模,2030年将接近300亿元,但绝大多数市场份额被日美企业占据,其中日本五巨头(东京应化、JSR、信越化学、住友化学、富士胶片)合计占据全球73%的市场份额,高端市场即14nm及以下市场更是高达90%。

国产企业中也不乏一些优秀者在光刻胶领域开疆拓土,彤程新材通过收购科华微电子,ArF胶通过中芯国际14nm验证,南大光电193nm浸没式ArF胶量产,EUV胶中试线投产,武汉太紫微KrF胶T150A分辨率达120nm,性能比肩国际产品,等等。

短期看,中国光刻胶依然与国外有不小差距,但在政策、资本、产业链协同下,我们的光刻胶正从“中低端突围”向“高端替代”跃迁,随着国外封锁的加剧,国产替代前景可期。